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  • 超臨界CO2發(fā)泡材料反應裝置 查看詳細介紹

    上海巖征生產的超臨界CO2發(fā)泡材料反應裝置,使用溫度300℃內,使用壓力:10mpa,適用于光化學高壓反應、二氧化碳(CO2)還原、二氧化碳(CO2)還原制甲醇(CH3OH)、二氧化碳(CO2)還原制甲烷(CH4)、氮氧化物(Nox)的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域

    更新時間:2024-05-23

    廠商性質:生產廠家

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  • CO2光催化反應裝置 查看詳細介紹

    上海巖征生產的CO2光催化反應裝置光化學高壓反應釜,使用溫度300℃內,使用壓力:10mpa,適用于光化學高壓反應、二氧化碳(CO2)還原、二氧化碳(CO2)還原制甲醇(CH3OH)、二氧化碳(CO2)還原制甲烷(CH4)、氮氧化物(Nox)的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域

    更新時間:2024-05-23

    廠商性質:生產廠家

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